E世博官方网站娱乐-光刻胶一一高科技壮大下的重点!-E世博官方网站娱乐

光刻是将图形由掩膜版上转移到硅片上,为后续的刻蚀步调作准备。在光刻过程中,需在硅片上涂一层光刻胶, E世博官方网站电子 ,经紫外线曝光后,光刻胶的化学性质发生变更,在通过显影后, E世博官方网站博客 ,被曝光的光刻胶将被去除,从而实现将电路图形由掩膜版转移到光刻胶上。再经过刻蚀过程,实现电路图形由光刻胶转移到硅片上。在刻蚀过程中,光刻胶起防腐蚀的掩护作用。光刻胶是半导体资料中技术壁垒最高的品种之一。

光刻是整个集成电路制造过程中耗时最长、难度最大的工艺,耗时占IC制造50%左右,成本约占IC生产成本的1/3。光刻胶是光刻过程最重要的耗材,光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响。

光刻胶产品种类多、专用性强, E世博官方网站体育,是典范的技术密集型行业。分歧用途的光刻胶曝光光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等性能要求分歧,导致对于资料的溶解性、耐蚀刻性、感光性能、耐热性等要求分歧。因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上都比较特殊,要求使用分歧品质品级的光刻胶专用化学品。

光刻胶一般由4种成分组成:树脂型聚合物、光活性物质、溶剂和添加剂。树脂是光刻胶中占比最大的组分, E世博官方网站游戏新闻 ,构成光刻胶的基本骨架,主要决定曝光后光刻胶的基天性能,包含硬度、柔韧性、附着力、耐腐蚀性、热稳定性等。光活性物质是光刻胶的关键组分,对光刻胶的感光度、分辨率等其决定性作用。

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